绍兴光刻板-苏州制版(推荐商家)

目前***范围内光刻掩膜版主要以***生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由***的生产商进行生产。

　　据统计：根据 SEMI， 目前***半导体光刻掩膜版市场规模近 34 亿美元，即 210 亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在 5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元，2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元，光刻板，规模较上年同期增长4.9%。

　　从我国光掩膜版的需求量来看，行业需求稳定增长，2016年需求量达到了7.98万平方米。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。普遍的光掩膜的类型有几种，铬版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。关键分2个构成，基钢板和不透原材料。基钢板一般 是高纯，低透射率，低线膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透层是根据溅射的方式镀在夹层玻璃正下方厚约0.1um的铬层。铬的强度比夹层玻璃略小，虽不容易损伤但是将会被夹层玻璃所损害。运用于集成ic生产制造的光掩膜为高敏***的铬版。

荷兰的A***L公司垄断了高i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司，自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术***。主要是技术难度太大。

　　其次是资金上的困难：

　　光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。

　　荷兰的A***L，为了筹集i资金，同时也是进行上下游利益***，研发风险共担，邀请英特尔、三星和台积电出资，做自己的大股东。A***L实际上是美、日、韩、德等共同***的项目，资金充裕。

　　中国也在此方面有长期投入，但投入水平和不能和多国合作同日而语。中国有相对宽裕的研发资金，也才是近7、8年的事情，而光刻机的研发，10年都显然不够。