光刻板-制版厂

苏州制版位于苏州工业园区生物纳米园，是集研究、设计、生产、销售于一体，***制作高精度掩膜版的企业，拥有高标准的全净化厂房，优i秀的高素质人才、***的研发团队。 苏州制版，面向中小企业、大学、研究所客户，提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版！根据客户的构想、草图，独i家定制版图提供技术咨询服务！

苏州制版提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版，目前投入生产有多台激光直写设备以及电子束曝i光设备。常规铬版CD精度±0.2um，高精石英铬版精度±0.07um。菲林版分辨率20um以上精度±2um。曝i光设备外，还拥有全自动显影柜，可以批量进行显影处理，保证生产能力。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1.2um，精度±0.1um。可以有效地排除缺陷问题。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻是生产制造集成电路工艺和集成电路芯片微图型构造的重要加工工艺。其加工工艺品质立即危害着元器件产出率、可信性、元器件特性及其使用期等主要参数指标值。光罩是光刻工艺中的1个关键步骤，光刻版务必十分清洁，全部硅片上的电源电路元器件都来源于板图。假如光刻版不清洁，存有环境污染颗粒物，这种颗粒物就会被复i制到硅片表层的光刻胶上，导致元器件特性的降低。殊不知，光刻版在应用全过程中难以避免的会沾到尘土、光刻胶等空气污染物，这种空气污染物的存有立即危害到光刻的实际效果。为了确保光刻版清洁，务必按时对光刻版开展清理，而清理的实际效果与清理加工工艺及其各清理加工工艺在机器设备上的合理流动拥有紧密的联络。

在半导体制造中，光刻板，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。